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AccuTOF DART系統(tǒng)的峰形校正和分子式測定

關(guān)鍵詞:MassWorks、sCLIPS、AccuTOF、分子式識別
時間:2008-05-19 15:02:18

引言

  運行在5000或更高分辨率的飛行時間質(zhì)譜(TOF),通過細(xì)致實驗,及將一個或更多內(nèi)標(biāo)與分析物選擇性或同時引入質(zhì)譜系統(tǒng)的鎖定質(zhì)量噴霧[2]或雙噴霧[3],能夠獲得5 ppm甚至更高的質(zhì)量精度。DART離子化技術(shù)的發(fā)明,大大簡化了這些內(nèi)標(biāo)的引入,由于可以適用不同類型的樣品,它可以很少或不需要樣品制備過程,實時或現(xiàn)場進(jìn)行質(zhì)量測定[4]

  雖然5 ppm的高質(zhì)量精度對于元素組成檢測是必要的,但這對于未知物分子式識別并不充分,即使是高于ppm級的質(zhì)量精度,也有一些化學(xué)上可能的分子式待選,特別是當(dāng)m/z高于400 Da[5-6]

  幸運的是,有其它重要信息能用于分子式測定。優(yōu)于單同位素峰的單點質(zhì)量測定,對于一個給定離子,整個同位素輪廓,無論是完全分開與否,包含潛在同位素分布的精細(xì)結(jié)構(gòu)信息,而這同元素組成密切相關(guān)。簡單測定同位素峰(MM+1…)的相對強度,對于減少可能分子式列表是非常有用的附加工具,特別是化合物含有Br-Cl-S-有顯著同位素特征元素時[5]。其它方式包括簡單的計算機建模,以及精心構(gòu)建高斯或其它峰形函數(shù)[7-9],但是,這些方式僅僅試圖大致接近真正的同位素輪廓圖,因為實際測量得到的峰形是未知或不能使用,導(dǎo)致產(chǎn)生百分之幾的建模誤差,這個級別的誤差大于分子式譜圖之間的細(xì)微差別,大大限制了同位素輪廓信息的使用。TOF MS系統(tǒng)的離子到達(dá)時間分布(峰形)具有特征的較大拖尾,建立足夠準(zhǔn)確的峰形函數(shù)用于分子式區(qū)分變得更為困難(如果可能)

  這篇應(yīng)用文章通過來自AccuTOF DART系統(tǒng)的一個實例,顯示了TOF MS峰形校正對于分子式識別的重要性,說明不使用內(nèi)標(biāo)或外標(biāo),利用MassWorks sCLIPS(自校正線形譜圖同位素輪廓搜索)對于分子式檢測的可行性。

實驗

  名義質(zhì)量數(shù)m/z319 Da的未知化合物及作為內(nèi)標(biāo)的PEG離子,在AccuTOF DART系統(tǒng)測量,然后將平均化的質(zhì)譜輸出為JCAMP數(shù)據(jù)格式輸入到MassWorks軟件(Version 2.02008422日發(fā)布,Cerno Bioscience, Danbury, CT, USA)處理并進(jìn)行分子式測定,離子計數(shù)閾值設(shè)置為零,以便確保采集得到真正的原始輪廓模式MS數(shù)據(jù)。

結(jié)果

  圖1(頂圖)顯示了輸入到MassWorks后的完全質(zhì)譜圖,圖1(底圖)顯示名義質(zhì)量為319 Da的感興趣未知離子部分。雖然有PEG離子能用作校正標(biāo)準(zhǔn),但為了證明MassWorks 2.0新自校正特點(sCLIPS)的有用性,在這個應(yīng)用中決定忽略這個校正離子。

  圖2顯示了MassWorks sCLIPS的通常數(shù)據(jù)處理流程。對比低分辨系統(tǒng)如單級四極桿的CLIPSsCLIPS的關(guān)鍵區(qū)別是使用未知離子本身的單同位素峰進(jìn)行峰形校正,而不校正m/z質(zhì)量軸,這種方式的基本原理基于以下三點:

  1. 未知離子的單同位素(校正)峰,在m/z上盡可能地靠近其余的同位素峰

  2. 未知離子的單同位素(校正)峰,在測量時間上盡可能靠近其余的同位素峰

  3. sCLIPS使用的場合,如較高分辨的MS系統(tǒng),其單同位素峰與其它同位素如M+1等實現(xiàn)了很好的分離,m/z通常是相當(dāng)準(zhǔn)確的,不需要額外的m/z校正。

 

 

1. 一個平均的AccuTOF DART MS譜圖(頂圖 -- 完全的MS譜圖;底圖 -- 319 Da未知離子的譜圖部分)

2. 高分辨MS系統(tǒng)用于分子式測定的MassWorks sCLIPS通常數(shù)據(jù)處理流程

一旦得到僅包含峰形的校正函數(shù)--有效地將實際峰形函數(shù)轉(zhuǎn)換為理想(已知的、對稱的和可用數(shù)學(xué)表達(dá)的)峰形函數(shù),這個校正函數(shù)然后被用于到整個同位素輪廓圖,包括其余的同位素峰,得到一個校正的同位素輪廓圖。雖受隨機噪音和其它測量條件(如檢測器飽和)或數(shù)學(xué)誤差影響,但這個校正后的同位素輪廓圖本質(zhì)上應(yīng)該與正確分子式的理論計算譜圖是一樣的,換句話說,作為下面定義的譜圖準(zhǔn)確度應(yīng)該接近100.00%

 

 

  這里,e是符合殘余向量,r是校正的同位素輪廓向量,||.||2 代表向量的函數(shù)(或者平方和的方根)。譜圖準(zhǔn)確度指標(biāo)用于評價在一定質(zhì)量誤差范圍內(nèi),測定的實際單同位素峰質(zhì)量與實際單同位素峰質(zhì)量相近的所有可能分子式的元素組成與給定化學(xué)式的符合程度。具有高譜圖準(zhǔn)確度的分子式是感興趣未知離子的可能正確分子式。

  圖3顯示了僅僅單同位素峰(頂圖)和全部同位素輪廓(底圖)經(jīng)過sCLIPS校正前后的峰形對比,校正后的理想峰形明顯地補償了TOF的峰形拖尾,而沒有任何明顯的分辨率損失。應(yīng)該注意的是,在318 Da存在一個可能來自M-H離子的質(zhì)譜干擾,當(dāng)sCLIPS分子式測定時也應(yīng)該考慮。

3. 感興趣離子的原始(黑色)和峰形校正后(紅色)質(zhì)譜圖(頂圖 -- 單同位素峰;底圖 -- 包含可能M-H離子的完全同位素輪廓)

  表1顯示了sCLIPS分子式測定參數(shù)和結(jié)果,需要注意的是,可能存在的M-H構(gòu)形用于混合搜索,MassWorks 2.0的一個新特點能處理三個相關(guān)的干擾離子,相應(yīng)地,譜圖準(zhǔn)確度工具現(xiàn)在能夠計算相對于319.1043 Da測定質(zhì)量,從-1.5 Da4.5 Da的質(zhì)量范圍,因此覆蓋了可能干擾離子的全部同位素輪廓。總共70種不同分子式滿足±10 mDa的質(zhì)量偏差(見表1),正確的分子式C17H20N2SCl ,顯示了97.27%的高譜圖準(zhǔn)確度.

  作為MassWorks 2.0的新增特點,用戶可以點擊列表中的每個分子式,將分子式計算得到的理論質(zhì)譜圖與校正后的譜圖進(jìn)行疊加,觀察匹配程度。圖4顯示了校正后質(zhì)譜圖與排名靠前(正確)的理論分子式C17H20N2SCl的譜圖疊加,說明包含來自M-H離子貢獻(xiàn)的全部同位素輪廓的很好譜圖匹配。事實上,軟件額外說明了MM-H的相對濃度為91%9%。對比圖3中顯示的原始譜圖與校正譜圖的不同,峰形校正清楚地表明了在得到高譜圖準(zhǔn)確度上起到了關(guān)鍵的作用,這有助于實現(xiàn)的分子式測定,更有意義的是這是不需要內(nèi)標(biāo)或外標(biāo)校正的前提下實現(xiàn)的。

1. sCLIPS分子式檢測參數(shù)和結(jié)果(僅顯示了70個待選分子式的前16)

 

 

4. 譜圖準(zhǔn)確度為97.27%排在位的分子式(C17H20N2SCl)的理論質(zhì)譜圖(綠色)與校正譜圖(紅色)的疊加

  圖5顯示了校正后譜圖與排名第二分子式(C15H24O3SCl )的譜圖匹配,該分子式僅有15個碳,譜圖準(zhǔn)確度為96.52%,顯示在320 Da峰上的輕微不同,再一次表說明了用已知峰形函數(shù)對真正同位素輪廓建模的重要性。有趣的是,在表1的可能分子式列表中,排在頂部的待選分子具有氮元素,說明這種疊加質(zhì)譜圖能作為分子式可能元素檢測的有效工具用。

5. 譜圖準(zhǔn)確度為96.52%排名第二的分子式(C15H24O3SCl,無氮元素)的理論譜圖(綠色)與校正譜圖(紅色)疊加圖

  相似地,圖6顯示了沒有考慮M-H離子干擾時地譜圖疊加,質(zhì)譜窗口為更小的-0.5- 4.5 Da,可以觀察到明顯的譜圖準(zhǔn)確度降低(96.36%,相對于表1或圖4中包含M-H時的97.27%),這個譜圖匹配的降低也能在320 Da離子匹配圖中清楚地看到。

 

6. 沒有考慮M-H離子的譜圖準(zhǔn)確度為96.36%排名的分子式(C17H20N2SCl)的理論譜圖(綠色)與校正后譜圖(紅色)的疊加

結(jié)論

  MassWorks sCLIPS不需要內(nèi)標(biāo)或外標(biāo)校正標(biāo)樣,通過利用未知物本身的同位素離子進(jìn)行關(guān)鍵的峰形校正。峰形校正結(jié)合在AccuTOF DART系統(tǒng)上已經(jīng)得到的高質(zhì)量準(zhǔn)確度,實現(xiàn)了分子式的識別,大大增加了儀器使用的方便性。增加的混合物搜索和交互式譜圖疊加功能,允許用戶查看校正和理論計算譜圖的匹配程度,對于任何存在的質(zhì)譜干擾提供有價值的信息,也可以在分子式測定過程中包含和排出某些元素。

致謝

  感謝JEOL USA, IncRobert B. Cody博士為本文提供的數(shù)據(jù)及其熱情討論。

參考文獻(xiàn)

  [1] Jeol Ltd. Tokyo, Japan

  [2] http://www.waters.com/waters/nav.htm?locale=en_US&cid=1000396

  [3] Edgar Naegele, Pharma Asia, April 25, 2008, http://www.pharmaasia.com/article-5582-statisticevaluationofmassaccuracymeasurementsbyesitofwithasampleofdegradationproductsfromtheantibiot-Asia.html.

  [4] Robert B. Cody et al, Anal. Chem. 2005, 77, 2297-2302.

  [5] Kind, T. BMC Bioinformatics 2006, 7, 234.

  [6] Don Kuehl, Am. Lab. Online, January 2008, http://americanlaboratory.texterity.com/al-online/200801ol/?pg=18

  [7] Evans, J. E.; Jurinski, N. B. Anal. Chem. 1975, 47, 961-963b

  [8] Tenhosaari, A. Org. Mass Spectrom. 1988, 23, 236-239.

  [9] Do Lago, C. L.; Kascheres, C. Comput. Chem. 1991, 15, 149-155.

  [10] Yongdong Wang, US Patent 6,983,213, filed October 20, 2003.

  [11] Yongdong Wang, Cerno Application Note Number 103, December 2006, http://www.cernobioscience.com/resources/ApplicationNotes/Agilent_LC-MS_Single_Quad_Infusion.pdf

 

關(guān)于綠綿科技
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